重新思考GaN的功率密度(.PDF下载)

2017年4月21日
1959年,Dawon kang和Martin Atalla发明了金属氧化物半导体,电力电子学领域取得了突破性进展

1959年,当Dawon kang和Martin Atalla在贝尔实验室发明了金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)时,电力电子学领域取得了突破性进展。五年后,首个商用MOSFET投入生产。从那时起,一代又一代的MOSFET晶体管使功率设计人员能够实现与他们的双极前辈不可能达到的性能和密度水平…

请在下面注册或登录以下载。pdf格式的完整文章,包括高分辨率的图形和原理图(如适用)。

从我们的合作伙伴

非金属外壳与金属外壳相比

聚碳酸酯GEOS附件. .非金属外壳与金属外壳相比。非金属外壳与金属外壳的比较2。什么……

AC/DC和隔离DC/DC开关稳压器

我们提供世界上最大的高性能AC/DC和隔离DC/DC控制器、转换器和模块组合之一,与…

氮化镓(GaN):超越硅的性能

最大限度地提高功率密度和可靠性与我们的GaN功率器件组合,为每个功率级别。我们的家族氮化镓(GaN) fet在…

为功率密度和低电磁干扰而优化的10-A Buck变换器

10-A降压变换器优化功率密度和低电磁干扰

GaN基和硅基fet基有源箝位反激变换器的比较

摘自2018年德州仪器电源设计研讨会。SEM2300,话题3。TI文献编号:SLUP380。©2018德州仪器公司…

600v 70mΩ GaN集成驱动器和保护

600v 70mΩ GaN集成驱动器和保护
Baidu